Herstellung dünner Bilayer-Schichten

Mardi · Anmeldungsdatum: 18.04.2019 Beiträge: 1

Meine Frage:
Hi leute,

ich muss Bilayer Schichten aus Nickel und Gold mittels e-beam Verdampfen herstellen. Die Gesamtdicke soll 40nm betragen. Ziel dabei ist es eine Gitteranpassung zwischen Substrat (Sapphire) und den Ni-Au-Nanopartikeln (durch Solid-state Dewetting hergestellt) zu bekommen. Dies soll über die Variation des Goldgehaltes geschehen. Hierfür soll das Verhältnis der Schichten z.B. folgendermaßen sein:

28at% Au und 72at% Ni

Frage ist nun: Wie komme ich von der Schichtdicke auf at%, bzw von at% auf die Schichtdicke?

Meine Ideen:
Muss ich hier einfach von at% auf vol% umrechnen und bekomme dann mit Gesamtdicke*vol% den Anteil der jeweiligen Schichtdicke?